实验特色
光刻工艺是微纳加工的关键工艺。光刻技术的发展、直接关系我国集成电路、高端传感器等高科技领域发展。半导体光刻工艺实验可有效辅助学生将理论知识运用于科学研究、工程训练实践环节，是典型的交叉学科类实验，通过光刻实验的教学开展，对于新工科背景下具有较强科研素质、创新思维及综合科学能力的人才培养意义重大。
实验内容
1. 掌握光刻工艺流程，以及参数设置对光刻效果影响；
2. 制作分辨率板确定光刻工艺参数；
3. 制作相位光栅并进行光栅常数的测量（200/100/50/25 线/mm）；
4. 制作菲涅尔透镜并进行相关实验验证（350mm@650nm，含正负片）
开设课程
近代物理实验、普通物理实验、大学物理综合实验（限选）、物理创新训练专题等课程
面向专业：
物理、光电、材料、化工化学等专业